Extrem krets från AMD och IBM
Av: Charlotta von Schultz
Publicerad 3 mars 2008 12:56
Halvledarjättarna AMD och IBM har lyckats tillverka fungerande kretsar med extrem UV-litografi. Det banar väg för framtida kretsar med minimala geometrier.
Kiselkretsars geometrier styrs av våglängden på det ljus som används när kretsarna tillverkas med hjälp av litografi. Ju mindre våglängd, desto mindre blir även transistorer och metalledare.
Nu har halvledarföretaget AMD i samarbete med IBM lyckats tillverka de första fungerande kretsarna med extrem ultraviolett litografi. Det rör sig om våglängder på 13,5 nanometer, att jämföra med de 193 nanometer som används vid dagens litografimetoder.
I tidigare försök i EUV-området (extreme ultra-violet) har endast små delar av kretsen tillverkas med de minimala våglängderna. I AMDs nya krets är dock hela det undre metallagret skapats med tekniken.
Kretsen som är 22 gånger 33 millimeter stor är tillverkad i en 45 nanometer process. Ännu rör det sig om en testkrets. Många problem kvarstår att lösa innan tekniken kan användas i kommersiell produktion.
Mer att läsa från IT & Telekom
Ny Teknik Jobb
Bloggar som länkar hit
Kommentarer